Samsung es el primer fabricante en iniciar la producción de chips de 7nm con la nueva tecnología ultravioleta extrema (EUV)

Samsung ha iniciado con la producción a gran escala de los primeros chips de 7nm fabricados bajo el proceso de 'litografía ultravioleta extrema', también conocido como EUV o EUVL (Extreme Ultra Violet Litography).

El proceso EUV aún es muy costoso debido a las máquinas que se requieren para la fabricación de los micros, por lo que las compañías se han enfrentado a todo tipo de retos que han hecho que esta tecnología se haya demorado tanto tiempo en llegar. Este nuevo proceso permite usar una sola capa para transferir el diseño de un chip a la oblea de silicio, mientras que en la tecnología ArF se requieren cuatro capas.

Dentro de esta tecnología de nodo de procesos 7LPP (Low Power Plus), la fabricación se vuelve más rápida y eficiente, trayendo así beneficios en costes y disponibilidad. En concreto, Samsung asegura que la adopción de este proceso nos traerá una reducción en el consumo de energía de un 50%, o bien, un aumento en el rendimiento en un 20%, todo dentro de un área de superficie 40% más pequeña en comparación con la tecnología anterior de 10nm de la compañía.

La fabricación de chips se logra mediante el uso de la luz para proyectar patrones de circuitos en las obleas. Pues en los actuales chips de Samsung de 10nm y 14nm esta luz tiene una longitud de onda de 193nm, mientras que para estos nuevos chips de 7nm se usará una luz con longitud de onda de sólo 13,5nm.

Lo anterior permitirá aumentar significativamente la densidad de transistores al tiempo que optimiza el consumo de energía, además de reducir la cantidad capas que se requieren para cada chip y así reducir los ciclos de producción.

Samsung estará produciendo sus chips 7LPP EUV en su planta 'Fab S3', ubicada en Hwaseong, Corea del Sur. La empresa asegura que hoy día tiene la capacidad de procesar 1500 obleas por día, pero ya piensan aumentar la fabricación en 2020 cuando habiliten una segunda línea de producción.